已经开始和工信部等多方面商讨，并且拿出了相应的专利证书，打算合伙建造一家半导体的生产公司。
而现在的国内的半导体的水平基本上还在96纳米制程，相比于现在台积电的20纳米和三星的14纳米来说，要差距巨大。
想要弯道超车的话，就必须要有一定的技术支持。
现在国内已经拥有着自主研发光刻机的公司，而这家公司正是大名鼎鼎的上海微电子公司。
相比于国外的阿斯麦来说，上海微电子的公司的技术相较于来说要落后10年左右。
一台光刻机的零件就有十万多个，而且其中有90%的零件需要依赖进口。
其实在上个世纪半导体行业，光刻机最为强劲的自然是尼康等其他厂商。
由于芯片技术的不断的进步，制程也越来越细，使得对于芯片生产的光刀要求越来越精细。
而这样的光到需要多长更短的光源才能够生产制程更低的芯片。
上个世纪光刻机光源卡死在193纳米这道坎上，这也成为了整个产业的一道难关。
怎么将193纳米光波磨细一点，成为了整个光刻机行业的头等难题。
只要谁能够突破这道难题，就能够真正的把握整个光刻机未来的发展方向。
在其他厂商都在研发极紫光技术，寻求突破时，阿斯麦采用了台积电提出的沉浸式光刻机方案真正的实现了弯道超车突破了193纳米的难关。
这种方案就是在光刻机的中间加入大量的水，通过详细的计算使得原先的光束在经过水的折射之后变得更细，从而实现更为精细的纳米制程工艺生产。
当然这种方案非常的耗费生产的成本，不过由于这种方法是一种技术方面突破自然被行业广泛运用。
而台积电和阿斯麦由于拥有着非常紧密的合作，最终台积电也靠着阿斯麦的弯道超车，真正意义上的从岛国的手中夺得了半导体生产霸主的位置。
以干刻技术为主的尼康等老牌半导体渐渐的落寞，最终消失在时代的洪流中。
而靠着湿刻技术正是崛起的阿斯麦也成为了整个半导体光刻机行业之中的霸主，垄断了整个光刻机行业80%以上的份额。
“这是极紫光技术！”
科学院众人看着手中打印出来的文本，脸上也露出了不可思议的神色。
显然这项技术可是关系着未来国内半导体行业的兴衰。
去年年底，唐浩便将这些技术交给了华国科学院的主打半导体领域的学士。
而唐浩的这项发展研发光刻机的技术正是和阿斯麦相反的极紫光技术，这种技术是通过专门的几次反射到达光线波长符合更为精细的光刀。
这些半导体领域的学士在看到这样的技术之后，也完全的被震惊到了。
虽然这上面写的可是理论方面的知识，但是要知道上个世纪西方
请收藏：https://m.dpxsw.cc
（温馨提示：请关闭畅读或阅读模式，否则内容无法正常显示）